半導體
Semiconductor
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半導體工業幾乎影響了我們生活的各個方面。從手機、電腦、電視、汽車到其他電子設備的存在都依賴于半導體的應用，但是其精密的制造工藝及嚴苛的生產環境，必須由專門的設備和儀器儀表來保證其安全、高效、精準地生產和運行。
在這方面我們經歷了數十年的耕耘和努力，為半導體行業的需求設計了專用的高品質壓力測量儀表。它們具有316L不銹鋼、氟聚合物 (PTFE/PFA) 等不同的接液部件，同時使用兼容VCR?專用接頭及超潔凈的表面處理，保證了超高純的工藝連接。每臺儀表在出廠前都會進行嚴格的氦氣檢漏測試，以及潔凈室的氮氣吹掃、烘干、無塵包裝等工序，以確保其高度清潔沒有污染。 同時，我們的壓力傳感器產品系列，均使用CVD壓力傳感器技術，進行精確穩定的壓力測量。我們產品的性能滿足關鍵的半導體工藝制程的要求。
氣體面板控制進入處理室的氣體流量。壓力傳感器安裝在每個氣體棒上的氣體面板內部，以監控壓力調節器的壓力輸出，使系統整體以更好的精度、準確度和速度運行。
半導體應用中使用的一些氣體是有毒的、易燃的，并且對處理它們的人來說是危險的。因此許多產品必須通過ATEX和IECEx危險場所認證。我們生產的超高純壓力變送器和壓力表專為半導體工業應用的安全使用而設計。
氫氣是UHP氣體輸送中最常用的載氣之一。安全處理氫氣需要采取保護措施來降低火災或爆炸的風險。首選方法包括本質安全和防火花認證。對材質來說，一個關鍵因素是氫脆的影響。壓力變送器和壓力表的穩定性和可重復性依賴于測量元件，這些元件的性能和接液材質的冶金工藝以及耐氫脆性能直接相關。Ashcroft超高純變送器和壓力表采用高純度奧氏體316L不銹鋼，該不銹鋼已被證明可減輕氫脆的影響。
防止污染物滲入潔凈室和其他潔凈空間所需的壓力需要精確的監控。壓力過低會導致不需要的顆粒進入該區域，而壓力過高會導致過多的空氣流動和能量浪費。集成到空氣處理設備中的壓力傳感器和壓力表必須非常靈敏、精確和可靠。
半導體制造包括將空白的晶圓轉變為分立的微電子元器件的異常復雜的過程。電路設計完成后被蝕刻到晶片上。這些晶片又被分割成單個的電路。晶片上電路的數量和密度不斷突破極限。濕法蝕刻使用腐蝕性化學物質進行微加工。
包括反應離子蝕刻(RIE)的干法蝕刻工藝通常用于在硅晶片圖案上形成接觸孔。它使用活性氣體，如碳氟化合物、氧氣、氯氣和三氯化硼?；一且环N類似于干法蝕刻的工藝，用于去除晶片上的光刻膠(光敏涂層)。等離子體灰化使用氧氣或氟氣，根據精確的壓力測量來控制這些氣體的流速非常重要。
半導體工業中的化學氣相沉積(CVD)工藝涉及使用載氣，例如氮氣或氧氣，來稀釋有毒氣體，例如磷化氫或一氧化二氮。半導體氣體可能是易燃、有毒和易爆的，因此必須仔細選擇經過適當認證的本質安全或非易燃的壓力傳感器，以滿足關鍵的安全要求。
半導體工業中的超純水被處理到最高純度，去離子水去除了所有有機顆粒和溶解氣體。半導體工藝如晶片清洗需要超純水和去離子水，以防止因外來顆粒的污染而產生缺陷并損壞晶片表面。這些應用對壓力表和壓力傳感器的材質提出了挑戰。
雅斯科的壓力測量技術和產品，包括配備CVD傳感元件的高純壓力傳感器以及使用?Si-Glas??超薄單晶硅膜片可變電容傳感元件的微差壓傳感器，在諸如氣體控制面板，氫氣壓力檢測，以及潔凈室關鍵環境控制等應用領域，為半導體制程和設備提供精確的測量和有效的保障。
半導體行業的清潔度水平超過醫療和制藥行業的10,000倍甚至更多。如此高標準的要求是基于半導體制程的精密性，也是因為制程被污染所造成的損失巨大。實際上某些設備需要多達400個工藝步驟，也增加了被污染的機率。 因此，半導體行業使用的超高壓氣體純度至少為99.999％。
Ashcroft??ZT/ZX系列高純壓力傳感器 基于CVD傳感元件平臺，是超純應用的專用壓力傳感器產品，其產品特性包括能適應不同介質的接液元件材質，如316L, A286，Co-Ni 合金等，也包括兼容VCR?接頭，以及符合規范的表面光潔度和測量精度。 每臺產品都經過泄漏檢測(>5 x 10-11 mbar L/s)以及雙重包裝處理，確保完整性和潔凈度。該產品系列與多種過程氣體兼容，并在長期過程測量中表現出較高的穩定性。
Ashcroft??ZL91?和?ZL92?超高純行業壓力傳感器是我們半導體產品系列的新成員。兩種型號均提供 ±1.0%滿量程精度（參考溫度為23°C)，多種安裝選項，并在 100 級潔凈室中組裝和包裝。
Ashcroft? 63mm HPT防腐蝕壓力表為半導體和電子制造行業的化學輸送系統提供了卓越的性能和可靠性。它的氮泄漏測試，以確保卓越的完整性，而緊湊的設計是有限空間安裝的理想選擇。在無污染過程中，接液部件可防止金屬離子洗脫，非常適合超純水或去離子水過程。
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